http://www.sdedu.gov.cn/jyt/jycz/bkyx/bkptxw/webinfo/2014/06/1402968457075275.htm

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 近日，青岛理工大学收到美国专利商标局的通知：兰红波教授申请的专利“Method And Device For Full Wafer Nanoimprint Lithography”获得美国发明专利授权，专利号：US8,741,199 B2。这是青岛理工大学首次获得美国发明专利授权。

 在国家自然科学基金“纳米制造的基础研究”重大研究计划、教育部新世纪优秀人才支持计划等项目的资助下，基于该专利，兰红波团队目前已经成功开发了国内首台具有自主知识产权4英寸整片晶圆纳米压印光刻机工程样机，目前正在开展6英寸和m级尺度超大面积纳米压印工艺和装备的研究。

 据介绍，大面积纳米压印光刻技术在高亮度LEDs、高清平板显示、高效太阳能电池板、晶圆级光学器件、高密度存储HDD、量子点、石墨烯等众多领域具有广阔的应用前景。（青岛理工大学）

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